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压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统评标结果公示公告

作者: 时间:2026-07-02 地区:全国 浏览:38 【字体:

【中国国际招标网】

项目名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统

招标项目编号:0618-264TC26070A5

招标范围:1.1设备采购名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射,1套,只接受全新设备。 1.2设备用途:主要用于光电、传感和铁电存储领域,实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 1.3设备作业基本流程:①装片->②预处理->③生长->④取片->⑤测试。

招标机构:中招国际招标有限公司

招标人:上海芯源创新中心

开标时间:2026-06-30 09:30

公示开始时间:2026-07-02 20:01

评标公示截止时间:2026-07-07 23:59

中标候选人名单:

候选人排名投标商名称制造商制造商国别及地区
1香港爱科美半导体有限公司Ulvac,Inc.日本