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项目名称：上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目

招标项目编号：4197-2340SHJT0002/150

招标范围：深沟槽刻蚀机、后道等离子氧化硅化学气相沉积、后道氮氧化硅化学气相沉积机

招标机构：中电商务（北京）有限公司

招标人：上海积塔半导体有限公司

开标时间：2026-06-26 10:00

公示时间：2026-06-26 20:09 - 2026-06-29 23:59

中标结果公告时间：2026-07-01 19:59

中标人：Lam Research International Sdn. Bhd.

制造商：Lam Research InternationalSdn.Bhd.

制造商国家或地区：新加坡